2英寸500W直流等離子磁控濺射鍍膜儀

產品簡介
VTC-2DC2英寸500W直流等離子磁控濺射鍍膜儀是一款小型的直流（DC）等離子體磁控濺射鍍膜儀系統，系統中包含了所有所需的配件，如500W（600V）的DC電源、2英寸的磁控濺射頭、石英真空腔體、真空泵和溫度控制器等。

Name: 2英寸500W直流等離子磁控濺射鍍膜儀VTC-2DC
Brand: 合肥科晶
Availability: InStock

產品型號：VTC-2DC

更新時間：2026-01-06

廠商性質：經銷商

訪問量：2139

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VTC-2DC2英寸500W直流等離子磁控濺射鍍膜儀

產品概述：

VTC-2DC2英寸500W直流等離子磁控濺射鍍膜儀是一款小型的直流（DC）等離子體磁控濺射鍍膜儀系統，系統中包含了所有所需的配件，如500W（600V）的DC電源、2英寸的磁控濺射頭、石英真空腔體、真空泵和溫度控制器等。對于制作一些金屬薄膜，它是一款物美價廉的實驗手。

主要參數：

輸入電源：220V AC 50Hz
輸出電壓：600 VDC
輸出功率：大500W
整機功率：1000W（包括真空泵）

濺射腔體：

采用石英腔體，尺寸：166mm OD x 150mm ID x250mm H（配置直靶頭）
尺寸：166mm OD x 150mm ID x290mm H（配置帶角度傾斜靶頭）
密封法蘭:直徑為165mm，采用金屬制作，密封采用O形密封圈

濺射頭&樣品臺：

濺射頭安裝靶材直徑為2英寸，同時可選配1英寸濺射頭
儀器中安裝有直徑為50mm的不銹鋼樣品臺，其與濺射頭之間距離可調
樣品臺可加熱，加熱溫度RT-500℃（RT為室溫）
安裝有一可手動操作的擋板
大可制膜的直徑為:2英寸（標配2英寸，如果需要更大尺寸請與我們銷售聯系）

真空系統：

安裝有KF25真空接口
數字真空壓力表（Pa）
此系統運行需要Ar氣，并且氣瓶上安裝有減壓閥（設備中不包含）
采用機械泵< 3.8E-2 Torr(參考值，詳情請點擊）
采用渦旋分子泵< 3.8E-5 Torr(參考值，詳情請點擊）
可在本公司選購各種真空泵

進氣：

設備上配1/4英寸進氣口方便連接氣瓶
設備前面板上裝有一氣流調節旋鈕，方便調節氣流

靶材：

靶材尺寸要求：Φ50mm×(0.1-5)mm(厚度)
可在本公司選購各種靶材

薄膜測厚儀（可選）：可在本公司選購薄膜測厚儀安裝在濺射儀上

產品外形尺寸：

540mm L x540 mm W x1100mm H

凈重：70 kg（不包括泵）

質量認證：CE認證

使用提示：
有時為了達到理想的薄膜厚度，可能需要多次濺射鍍膜
為了得到的薄膜質量，必須通入高純氣體（建議> 5N）
在濺射鍍膜前，確保濺射頭、靶材、基片和樣品臺的潔凈
要達到薄膜與基底良好結合，請在濺射前清潔基材表面
超聲波清洗（詳細參數點擊下面圖片）：（1）丙酮超聲（2）異丙醇超聲-去除油脂（3）吹氮氣干燥（4）真空烘箱除去水分。
等離子清洗（詳細參數點擊下面圖片）：可表面粗糙化，可激活表面化學鍵，可祛除額外的污染物。
制造一個薄的緩沖層（5納米左右）：如Gr，Ti，Mo，Ta，可以應用于改善金屬和合金的附著力。

警告：

注意：產品內部安裝有高壓元件，禁止私自拆裝，帶電移動機體。
氣瓶上應安裝減壓閥（設備標配不包括），保證氣體的輸出壓力限制在0.02兆帕以下，以安全使用。

濺射頭連接到高電壓。為了安全，操作者必須在關閉設備前裝樣和更換靶

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