產(chǎn)品簡介

行星式冷凍球磨儀通過將液氮超低溫冷卻技術(shù)與行星式高能球磨原理結(jié)合，實現(xiàn)了對復(fù)雜樣品的“低溫脆化-高頻沖擊-精準研磨“一體化處理，用于研磨中低硬度、各種脆性、柔韌樣品，如藥物藥材類、生物樣品類、無機物類、有機物類、礦石類、土壤類等樣品。主要應(yīng)用于生物, 食物, 農(nóng)業(yè), 醫(yī)藥品, 化學(xué) /合成材料,工程/電子, 建筑原料, 玻璃/陶瓷等領(lǐng)域。

行星式冷凍球磨儀

一．產(chǎn)品簡介：行星式冷凍球磨儀通過將液氮超低溫冷卻技術(shù)與行星式高能球磨原理結(jié)合，實現(xiàn)了對復(fù)雜樣品的“低溫脆化-高頻沖擊-精準研磨"一體化處理，主要應(yīng)用于研磨中低硬度、各種脆性、柔韌樣品，如藥物藥材類、生物樣品類、無機物類、有機物類、礦石類、土壤類等樣品。主要應(yīng)用于生物, 食物, 農(nóng)業(yè), 醫(yī)藥品, 化學(xué) /合成材料,工程/電子, 建筑原料,  玻璃/陶瓷等領(lǐng)域。

二．核心優(yōu)勢

1.粒度控制與均勻性

（1）納米級粉碎：干磨可至1-10微米，濕磨或加分散劑可至100-500納米，滿足LC-MS/MS、ICP-OES等高靈敏度檢測需求；

（2）均勻性：研磨罐內(nèi)樣品隨磨球運動充分攪拌，多組分混合誤差低于2%，例如催化劑活性組分（如鉑、鈀）在載體表面的分散度達95%以上。

2.低溫保護與熱敏性處理

（1）生物樣本：避免DNA、RNA、蛋白質(zhì)因高溫降解，活性保持率達95%以上；

（2）易燃易爆物質(zhì)：低溫抑制氧化反應(yīng)，適用于塑料等揮發(fā)性樣品的無損研磨。

3.高通量與自動化

（1）批量處理：支持96孔板、192孔板同步研磨，單批次處理量提升10-20倍，例如法醫(yī)檢測中單日可處理500份毛發(fā)樣本；

（2）智能控制：液晶觸摸屏預(yù)設(shè)研磨參數(shù)（時間、轉(zhuǎn)速、正反轉(zhuǎn)間隔），可存儲100組實驗程序，支持循環(huán)運行模式。

4.安全性與防污染設(shè)計

（1）密封防塵：研磨室采用雙鎖緊結(jié)構(gòu)與防退齒輪設(shè)計，運行中罐體把手不會松懈，避免交叉污染；

（2）低溫適配器：支持-196℃液氮冷凍研磨，配備自動中心定位緊固裝置，防止罐體脫落。

三．產(chǎn)品參數(shù)：

1.全金屬機身，阻尼鉸鏈可限位開門任意角度，電動開關(guān)工作倉機蓋，壓力傳感器自動識別倉門狀態(tài)。

2.采用“多種物質(zhì)粉碎提取"和“快速研磨功能的細胞粉碎裝置"技術(shù)，對于將任何來源(包括土壤、植物和動物的組織/器官、細菌、酵母、真菌、孢子、古生物標本等樣本進行研磨粉碎。進而可以對的原始DNA、RNA和蛋白質(zhì)進行提取和純化，應(yīng)用領(lǐng)域： 生物, 食物, 農(nóng)業(yè), 醫(yī)藥品, 化學(xué)/合成材料,工程/電子, 建筑原料,玻璃/陶瓷

3. 球磨罐在破碎過程中處于全封閉狀態(tài)，避免交叉污染。

4.★OLED觸摸屏，PID微電腦智能控制，預(yù)設(shè)研磨方案，單組循環(huán)或多組間歇式研磨，讓研磨更簡單；研磨條件自動記錄，記錄間隔可調(diào)，方便溯源分析。

5.在減震技術(shù)上采用“雙層減震結(jié)構(gòu)"技術(shù)，確保在高速研磨工作時，儀器處于一個穩(wěn)定狀態(tài)，不會對于外部儀器產(chǎn)生干擾及保證整體環(huán)境的安全。

6.固定球磨罐的部分，采用了“簡便式球磨罐壓緊"技術(shù)，降低風(fēng)險，再配以可靠的壓緊技術(shù)對于高強度的研磨工作

7.使用數(shù)據(jù)自動記憶帶USB導(dǎo)出接口

8.進樣尺寸（材料各異）：土壤料≤10mm ,其他料≤3mm。出樣粒度：最小可達0.1um

9.研磨頻率0—70 Hz/S

10.研磨時間0-9999S

11.★加/減速時間1-60s可調(diào)

12.★程序模式30組配方數(shù)據(jù)存儲，可正向逆向運行設(shè)定，可以預(yù)設(shè)研磨配方，根據(jù)設(shè)置實驗參數(shù)不斷循環(huán)

13.球磨載體材質(zhì)：不銹鋼、瑪瑙、氧化鋯、剛玉、碳化鎢、聚氨酯等可選

14.球磨介質(zhì)材質(zhì)：不銹鋼、瑪瑙、氧化鋯、剛玉、尼龍、聚四氟乙烯可選

15.★制冷功能：有 20度至 -50 度自由調(diào)節(jié)

16.傳動比（行星盤/球磨罐）：1:1

17.主盤轉(zhuǎn)速：5-400r/min

18.球磨罐轉(zhuǎn)速：10-800r/min

19.載體體積：100ml -500ml 通用,  1000ml

20.處理量：4x1000ml

21.最小處理量: 50ml/罐

22.介質(zhì)直徑：3/5/10/15/20mm  介質(zhì)質(zhì)量：200-1000g

23.研磨方式：干磨 / 濕磨

24.惰性氣體保護處理：是

25.電源  AC220V  50-60Hz